技术编号：28502511
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。自参考干涉仪和双重自参考干涉仪装置.相关申请的交叉引用.本申请要求于年月日递交的美国临时专利申请号/,的优先权，所述美国临时专利申请的全部内容通过引用并入本文中。技术领域.本公开涉及干涉仪设备和系统，例如，用于光刻设备和系统的自参考干涉仪设备。背景技术.光刻设备是一种将期望图案施加到衬底上、通常是施加到衬底的目标部分上的机器。光刻设备可以被用于例如集成电路(ic)的制造中。在该情况下，图案形成装置(其备选地被称为掩模或掩模版)可以被用于生成待被形成在ic的单...
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