技术编号：2850899
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明公开了一种精确控制离子注入分布均匀的方法，涉及离子注入机，属于半导体制造领域。该方法包括高精度多通道I/V采集转换、水平方向束分布密度的检测与修正、束平行度检测、垂直扫描控制算法。系统主要由多线圈调节磁铁、多级调节磁极、移动法拉第杯、采样法拉第杯、直线电机和PMAC运动控制系统构成。本发明能够自动实现离子注入离子的剂量的精确检测、自动实现注入离子分布的均匀性和剂量的准确性控制。专利说明[0001]本发明涉及离子注入机均匀性控制方法，涉及离子注入机，属...
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