技术编号：2853456
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明公开了一种实现快速散热的法拉第屏蔽装置及等离子体处理装置，通过将等离子体反应腔上方的介电窗口靠近射频线圈的表面涂覆金属法拉第屏蔽装置，避免了传统的板状法拉第屏蔽装置受热发生变形导致的和介电窗口贴合不紧密，不能迅速的把介电窗口的热量传送到反应腔外部的技术问题，通过采用喷涂或蒸镀等方法，将法拉第屏蔽装置和介电窗口紧密贴合在一起，同时在法拉第屏蔽装置表面或内部设置导热部件，快速降低等离子体反应腔的温度，实现等离子体加工工艺的稳定和均匀。专利说明实现快速散热...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。