技术编号:28675318
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。.本实用新型有关于一种具有对开式遮蔽构件的沉积设备,主要通过对开式遮蔽构件遮挡承载盘,以避免在清洁处理腔室的过程中污染承载盘。背景技术.化学气相沉积(cvd)、物理气相沉积(pvd)及原子层沉积(ald)皆是常用的沉积设备,并普遍被使用在集成电路、发光二极管及显示器等制程中。.沉积设备主要包括一腔体及一晶圆承载盘,其中晶圆承载盘位于腔体内,并用以承载至少一晶圆。以物理气相沉积为例,腔体内需要设置一靶材,其中靶材面对晶圆承载盘上的晶圆。在进行物理气相沉积时,可将惰性气体及/或反应气体输送至腔...
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