技术编号：2869381
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。公开了一种电子束感应蚀刻。束感应蚀刻使用维持在接近前体材料的沸点的温度处的工件，但是该温度足够高以脱附反应副产物。在一个实施例中，NF3被用作用于在低于室温的温度下进行硅的电子束感应蚀刻的前体气体。专利说明电子束感应蚀刻 [0001]本发明涉及带电粒子束工艺，并且特别地涉及束感应化学工艺。 背景技术 [0002]“束化学”提及由诸如带电粒子束或激光束的束引发的化学反应。“电子束化学”包括电子束感应沉积(EBID)和电子束感应蚀刻(EBIE)并且典...
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