技术编号：2882518
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明与除去附着于离子束注入机内表面的污物有关，具体地说，与用离子束除去注入机内污物的方法有关。离子束注入机被用于给硅片注入或“搀入”杂质，以得到n型或p型非本征物质。这种n型或p型非本征物质被用于半导体集成电路的制作。恰如其名称所暗示，离子束注入机将选定种类的离子掺入硅片内，得到所需的非本征材料。注入自诸如锑、砷或磷等源物质产生的离子，可得n型非本征材料。若需p型非本征材料片，则注入自诸如硼、镓或铟等源物质产生的离子。离子束注入机包括一个离子源，用以从可...
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