技术编号：2894061
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种无掩膜光子电子点格栅阵列光刻系统。本发明尤其 可以应用于对半导体衬底进行成像的光刻技术。要求临时专利申请的优先权 本专利申请要求第60/331,035号美国临时专利申请的优先权。背景技术光刻技术是一种用于在半导体衬底上产生图像的技术。通常，如果曝 光涂布在该衬底上的抗蚀剂，则将在掩膜或"初缩掩膜版(reticle )"形 成的图像转印到半导体衬底上。要求在半导体衬底上图形化越来越小的 特征图形，这样就要求在成像该图形时使用越来越短波长的光。使...
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