技术编号：2894144
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明是关于通过供给气体外加电弧电压生成等离子体，自该等离子体生成离子 束的离子源，例如半导体装置制造用离子注入装置或FPD (Flat Panel DiSplay)制造 用离 子注入装置所使用的离子源。背景技术当在离子源中产生等离子体的时候，将动作气体供给至减压环境下的等离子体容 器内，在等离子体容器内，将加热至2000°C以上的灯丝等的被加热体当作释放热电子的阴 极使用，将由等离子体容器内的导体层所构成的内衬构件(衬垫)或是容器本身当作阳极 使用。在上...
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