技术编号：2894415
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种EUV光刻设备，该设备包括包围内部的壳体、布置在内部的至少 一个反射光学元件、用于在内部中产生残余气体环境的真空产生单元、以及用于在残余气 体环境中检测至少一种污染物质的残余气体分析仪。本发明还涉及一种通过EUV光刻设备 的残余气体环境的残余气体分析而检测至少一种污染物质的方法，所述EUV光刻设备具有 带有内部的壳体，其中布置了至少一个反射光学元件。背景技术反射元件，尤其是反射镜，被典型地用作EUV光刻设备中的光学元件，这是因为在 EUV光刻...
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