技术编号：2894828
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及高压气体放电灯，具体涉及高压气体放电灯的冷却装置和聚光器。 背景技术在投影曝光设备如半导体器件IC/LED制造/投影设备/医疗器械等制造技术中， 常常需要使用达上千瓦或更大功率的高压气体放电灯。在其他条件不变的情况下，更大功 率的光源意味着更大的曝光产率，有利于提高半导体器件等的制造效率。高压气体放电灯必须工作在沿其轴线方向温度可控制的环境中，以保证其发光效 率和使用寿命，同时在大多数情况下，将其置于一个聚光器件的焦点上以得到具有较高光 功率密度...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。