技术编号：2895729
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及离子束的注入领域，特别涉及一种具有束流减速器的离子注入机系统。背景技术离子注入是一种把原子或分子引入目标工件衬底的制程，此制程通常被称为掺 杂，它能改变材料的属性。离子注入是一个在大规模集成电路的制造中常见的制程，离子注 入也可用于薄膜沉积等与制造光学仪器或显示仪器(如平板显示器)等相关的制造工艺。 一个典型的离子注入机包括一个产生离子束的离子源；一个离子束选择、成型和传输系统， 它包括使用磁场的离子束质量分析系统；以及一个靶室，用于处理将注入离...
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