技术编号：2897762
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种安装在等离子反应内室中的侧部气体喷射器。本发明尤其涉及一 种在等离子反应内室中使用的侧部气体喷射器，它能呈辐射状地向晶片侧向喷入一种反应 气体，通过一个独立的质量流量控制使反应气体在晶片的边缘部位均勻地扩散，从而提高 晶片边缘的蚀刻均勻性。背景技术半导体中使用的大尺寸晶片通常被设置成一个连成一体的电路装置，玻璃底板是 液晶显示器(LCD)等设备中的关键部位，其表面以预定的方式形成多个薄膜层，并选择性 地仅去除其中部分的薄膜层，从而在表面形成超...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。