技术编号：2898695
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及用来处理基底的装置和方法，这种基底比如是在集成电路(IC)制造中使用的半导体基底或者在平面板显示应用中使用的玻璃面板。更具体地说，本发明涉及改进的等离子体处理系统，这些系统能够横截着基底表面以很高程度的处理均匀性对基底进行处理。背景技术 等离子体处理系统已经出现了一些时间。多年以来，已经引入并使用了采用感应耦合的等离子体源、电子回旋加速器共振(ECR)源、电容源以及类似源的等离子体处理系统在不同程度上对半导体基底和玻璃面板进行处理。在处理过程中，...
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