技术编号：2898999
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明主要涉及半导体工业中集成电路的制造。背景技术 半导体工业中集成电路(IC)的制造通常在等离子处理室内使用等离子体来产生或辅助表面化学反应，这种化学反应是从衬底去除物质以及向衬底沉积物质所必须的。通常，等离子体是在处理室中的真空条件下通过将电子加热到足以维持与处理气体进行电离碰撞的能量而产生的。另外，经过加热的电子可能具有足以维持分离碰撞的能量，因此要选择预定条件下(比如室压、气体流速等等)的一组特定气体来产生带电核素以及能够进行化学反应的核素，这些核...
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