技术编号：2899338
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种离子束源和操作这种源的方法。 背景技术离子束沉积系统非常适于金属的沉积，因为导电金属靶提供了优良的电和热通道，避免任何充电或热问题。这种系统可以用于沉积绝缘材料，但是此时，靶可能变得快速充电(由于其表面上的入射离子的正通量)。这频繁导致电弧，电弧典型地在源内出现。传统方案已经提供了一种辅助电子源，如热线(hot wire)，它提供电子的热离子发射；或等离子源，如考夫曼单元(Kaufman cell)、空心阴极或感应耦合的等离子体。尽管这些装置...
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