技术编号：2899824
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明设计一种控制离子均勻注入的二维扫描同步的方法，特别的涉及离子注入机，属于半导体器件制造领域。背景技术离子注入机是半导体器件制造中最关键的掺杂设备之一，是一种通过引导杂质注入半导体晶片，从而改变晶片传导率的设备，其中杂质注入的深度和密度的均勻性都直接决定了注入晶片的品质。离子注入机均勻性控制技术是离子注入机的关键技术之一，其工作原理是基于各种控制与测量方法和装置将离子按设定的剂量均勻地、精确地注入到整个晶片表面。为了保证片上浅结晶体管和场效应管的性能稳...
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