技术编号：2902053
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种电子束光刻方法，特别涉及电子束光刻方法以及适合于大尺寸半导体集成器件和高度集成的一种电子束光刻装置。近几年来，随着器件的尺寸和集成度变大，需要精密的曝光图案。为了满足这一要求，已经有人提出一种高产量的电子束光刻系统。这种系统的一个例子是SCALPEL系统。SCALPEL表示“投影电子束光刻光刻限角散射”。在该电子束光刻系统中，每个曝光区域(条纹)(具有几个毫米的宽度)被扫描，并且用制备的电子束(EB)掩膜曝光。因此，由于曝光条纹是连接的，因而...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。