一种实时检测离子束剖面密度分布和离子束均匀性分布的装置的制作方法技术资料下载

技术编号:2905010

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本发明涉及一种半导体制造装备离子注入机的离子束流检测装置,属于半导体器件制造领域。背景技术随着半导体集成电路制造エ艺越来越微细化,对半导体制造设备的性能要求也就越来越高。离子束注入机是半导体器件制造中最关键的搀杂设备之一,当器件制造エ艺迈入特征尺寸90nm以下,晶圆片尺寸300mm时代,为了保证整个晶圆片上器件性能的一致性,必须对离子注入搀杂エ艺中对整个晶圆片维持搀杂分布的均匀性有更高的要求。因此,实时并精确检测离子注入束斑的形状和均匀性分布变得更加重要。...
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  • 高老师:1.电力电子及应用 2.嵌入式系统应用