技术编号：2909843
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及等离子体工艺设备的，尤其是，本发明涉及等离子体工艺设备参数的非侵入性测量和分析所使用的传感设备。背景技术 等离子体工艺系统在如下方面有重要的用途，如材料加工，半导体制造和工艺，集成电路，显示和其他用于蚀刻或在例如半导体晶片的衬底上形成层沉淀的电子仪器。通常，等离子体工艺系统的基本组成包括形成等离子体的腔体，连接到一个用于注入和去除处理气体的真空端口上的泵浦区，和一个在腔体内部形成等离子体的电源。附加的组件可以包括一个支撑晶片的卡盘，一个电源，用于...
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