技术编号:29226002
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。一种可抗pid的硅片表面镀膜的臭氧喷淋系统技术领域.本实用新型涉及磁铁加工装置技术领域,尤其涉及一种可抗pid 的硅片表面镀膜的臭氧喷淋系统。背景技术.目前可以明确的是pid现象和电池片表面的反射层有关,提高反射层的折射率可以有效地降低pid现象的发生。含si多的减反层比含n多的减反层更可以抵抗pid现象。当减反层的折射率大于.后, pid现象不再被观察到。而当折射率小于.后,组件很难通过pid 测试。目前有不少的光伏电池厂在做针对电池和pid的关系的测试中也发现了类似的现象,所以...
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