技术编号：2924547
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种离子束测量方法和能够通过使用控制装置执行所述测试方法的离子注入装置，所述测量方法在垂直于x方向的y方向上在离子注入装置中测量离子束的角偏移、发散角和束尺寸，所述装置的类型为在x方向平行地扫描离子束以照射到目标上。背景技术 近年来离子注入技术在半导体制造工艺中具有重要的地位。在将离子注入到目标例如半导体衬底时，已知特别在注入深度方向上的注入特性由相对于半导体衬底的晶轴的注入角度(入射角)决定，且通常需要离子注入技术能够在防止注入特性的条件下或主...
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