技术编号:29284122
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。.本实用新型涉及等离子体刻蚀设备技术领域,具体为一种防止扬尘的等离子体刻蚀设备。背景技术.半导体技术的不断进步,迫使半导体制造设备迭代发展,性能更优,稳定性更佳,功能集成度更高,自动化水准更高,是所有设备供应商以及设计师需要不断突破和创新。等离子体刻蚀设备是半导体工艺常用的设备,通过等离子体轰击的方式对晶圆表面的薄膜进行刻蚀,从而改善薄膜表面均匀性以及粗糙度等性质。.现有的等离子体刻蚀设备在使用过程中产生的微粒会沉积在出风管,导致下次使用,设备的内部由真空环境向非真空环境切换,强大的气流经...
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