含锆钨基的高电流密度电子发射体材料及制备方法技术资料下载

技术编号:2928973

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本发明涉及一种高电流密度电子发射体材料及制备方法,尤其涉及一种含锆钩基的 高电流密度电子发射体材料及制备方法,属于含有添加剂的难熔金属阴极材料技术领 域。背景技术电子发射体是真空电子器件的心脏,广泛应用于雷达、电子对抗、通讯遥测遥控等 各类电子信息系统和设备中。随着工作频率向毫米波段进展,器件尺寸微型化,对电子 发射体大电流密度、长寿命、高工作稳定性的要求尤为紧迫。目前研制的方法是在传统 的钡钨阴极基体中添加020(组成重量比0203为1-20%,鸨粉为8...
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  • 高老师:1.电力电子及应用 2.嵌入式系统应用