技术编号：2934215
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种带电粒子光束系统，如电子束曝光系统，扫描和非扫描电子显微镜等。本发明提供一种微透镜阵列，用于产生多个聚焦子光束(beamlet)或在带电粒子束曝光中聚焦具有不同入射角的光束或进4亍成〗象的具有零—见场曲率(zero field curvature )并最小化几何象差如彗差和象散现象的装置，包括限流光圈(限流隙，current limitingaperture),产生多个带电粒子子光束，与该限流光圈对准的透镜阵列，用于聚焦所有进入平面成像平面的...
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