技术编号：2934450
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及离子注入(ion implantation)，且特别涉及离子注入才几(ion implanter)中束縛电子的技术。背景技术离子注入机被广泛使用于半导体制造中，以选择性地改变材料的传导性。 在典型的离子注入^L中，将离子源(ion source)所产生的离子通过一系列 束线组件(beamline component)而向下游传输，所述束线组件可包括一或 多个分析器及/或校正器》兹体(corrector magnet)以及多个电极。可使用分 析器磁...
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