技术编号：2935735
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及白炽灯及光照射式加热处理装置，尤其涉及为了加热被处 理体所使用的白炽灯及使用了白炽灯的光照射式加热处理装置。背景技术一般，在半导体制造工序中，在成膜、氧化、氮化、膜稳定化、硅化 物化、结晶化、离子植入活性化等的各种程序中，采用加热处理。为了提 高半导体制造工序中的成品率或品质，期望急速地上升或降低半导体晶片等的被处理体的温度的急速热处理(RTP Rapid Thermal Processing)。在 RTP中，使用来自白炽灯等的光源的光照射的光照...
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