技术编号：2942153
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及的是等离子体注入的装置，具体是一种等离子体脉冲注入的装置。背景技术等离子体注入(PIII)是一种有效的材料表面改性技术，PIII技术特别适用于束线离子注入无法处理的复杂形状的靶、大靶或重靶(工件)，并可批量处理。PIII技术的广泛应用也对PIII硬件提出了各种要求。在PIII硬件中的关键部位是负偏压电源系统，且由于其不是标准的工业产品，因而不得不专门设计制造。目前各国所使用的大多为脉冲负偏压电源系统。目前多数采用的脉冲电源模式大致有真空电子开关管...
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