技术编号:29424264
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。.本申请涉及有限元分析技术领域,尤其涉及一种多层膜元件热应力分析方法、系统和终端设备。背景技术.多层膜单色器在国内外众多同步辐射装置,例如中国的bsrf、nsrl、ssrf,日本的spring-,法国的esrf,美国的aps等均被广泛应用。当多层膜元件表面吸收高热负载时,会产生较大变形,多层膜元件由于膜层材料和基底材料的热膨胀系数不同,膜层中会产生非常大的热应力,这对膜层的安全产生不利的影响。为了对多层膜结构的性能以及使用寿命进行预测,可以采用有限元方法进行模拟分析,但是由于多层膜结构的高...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。
请注意,此类技术没有源代码,用于学习研究技术思路。