技术编号：2944148
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及带电粒子探测和检查系统，并且本发明尤其涉及使用带电粒子的多小波束(multiple beamlet)的这种系统。背景技术从WO 2005/024881可知 传统的多小波束检查系统。其中公开的多小波束检查系统用于检查物体，例如半导体晶片。多个一次电子小波束彼此平行地聚焦，以在物体上形成一次电子束斑点(spot)的阵列。由一次电子产生并从各自一次电子束斑点发出的二次电子由带电粒子成像光学系统接收，以形成二次电子小波束的相应阵列，将二次电子小波束提供给...
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