技术编号：2944212
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。电容耦合反应器中用梯形波形激励的等离子体加工背景技术公开了用于激励包含衬底的电容耦合的反应等离子体反应器的至少一个电极的方法和系统。本发明可有利地应用于-用于太阳能光伏电池制造的例如硅和/或锗和/或碳的非晶态合金、微晶合金和纳米晶合金的薄膜的等离子体增强化学汽相沉积(PECVD);以及用于平板显示器和集成电路制造的其他薄膜例如Si02、Si3N4等的沉积；-包括用于FPD制造、集成电路制造和光伏设备制造的包括S1、Si02、Si3N4、金属等的薄膜的等离子...
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