技术编号：2945745
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及等离子体处理装置。背景技术在下述专利文献I中记载了一种等离子体处理装置。在专利文献I中记载的等离子装置，具备处理容器；工作台；微波发生器；天线；电介质窗；同轴波导管；和喷射器基。工作台收纳在处理容器的内部。在工作台上载置被处理基体。天线设置在工作台的上方。天线通过同轴波导管与微波发生器连接。该天线包括形成有缝隙的缝隙板。电介质窗设置在天线和工作台上方的处理空间之间。 电介质窗形成有用于收纳喷射器基底的空间，并且形成有从该空间向处理空间延伸的贯通孔...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。