技术编号：2946407
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明是关于在被处理材料上形成所定膜的方法、使用该成膜方法的配线图案形成方法、半导体装置的制造方法、及具有这些配线图案和/或半导体装置的电光学装置以及电子仪器。背景技术 近年来，使用激光的转印技术，在工业应用中广为盛行。例如，采用称作激光光热转印法，或LITI(Laser-Iuduced Thermal Imaging)法的方法，通过激光照射，将基体材料上形成的转印层转印在被处理材料上的技术，例如公开在专利文献1，2等中。特开平10-208881号公报[专...
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