技术编号：2948598
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。EB炉熔炼过程中EB枪气体流量控制的方法本发明属EB炉真空熔炼中电子枪稳定发射电子束的控制方法。技术背景EB炉熔炼需要电子枪发射出稳定的电子束，而电子束在被发射出来的过程中由于同性电子的排斥作用会发生向四周扩散、不能稳定聚焦的现象，使电子束不能顺利的通过各处腔体，打到所需熔炼的物料上。如不加以控制会导致电子束能量发生损失，极大地影响熔炼效率和熔炼质量，严重的还会损坏电子枪及其附属设备。发明内容本发明的目的是大大减少或消除电子束出现向周围扩散、不能稳定聚焦现...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。