技术编号：2958342
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。具有减少的工具痕迹的用于均匀薄膜沉积的平行板反应器本发明涉及ー种电容耦合平行板等离子体增强型化学气相沉积反应器，该反应器包括被整合在RF电极中的气体分配単元，并包括气体出ロ。电容耦合等离子体增强型化学气相沉积(PECVD)反应器通常被用来在基片(例如用于制造太阳能电池的半导体基片)上沉积薄膜。重要的是在基片表面具有高空间均匀性的情况下进行等离子体制造エ艺。也就是说，沉积エ艺应该以使得所沉积的材料在基片表面上的所有位置都具有均匀的厚度和品质的方式来进行。此类...
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