用于在离子植入中延长设备正常运行时间的方法及装置的制作方法技术资料下载

技术编号:2958627

提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。

本发明涉及离子束的产生,其中在一离子源中将一种或多种气态或气化的进料离子化。本发明还涉及一种用于操作一离子源来产生一离子束以对半导体衬底及平板显示器的衬底进行离子植入的方法及装置。具体而言,本发明涉及到延长用于产生离子束的系统的生产时间(即“正常运行时间”)。背景技术 离子束是由从离子源提取出的离子形成。离子源通常采用一连接至高电压电源的离子化室。所述离子化室与一离子化能量源相关联,所述离子化能量源例如(举例而言)为电弧放电、来自发射电子的阴极的高能电子、...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。

详细技术文档下载地址↓↓

提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
该分类下的技术专家--如需求助专家,请联系客服
  • 高老师:1.电力电子及应用 2.嵌入式系统应用