技术编号：2979242
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明主要涉及用于向工件中注入离子的离子注入系统，尤其涉及一种用于离子和带状束的离子束角度校准和发射度测量系统。背景技术离子束注入过程中束角度控制可能已经成为仅次于剂量控制的第二重要的参数。 通过具有高纵横比(也就是深度与宽度之比)的掩模的孔径进行的注入，对于撞击工件表面的离子的入射角度敏感。离子的角度分布尽可能勻称对于在工件的所有预设区域产生一致的剂量是非常重要的。获得一致的入射角度意味着离子束的角度分布需要被准确地测量和控制。此外，期望测量在工件平面处...
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