微影机及基板处理的配置的制作方法技术资料下载

技术编号:2979355

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本发明涉及一种带电粒子微影设备以及在群集中的这种微影设备的配置。 背景技术带电粒子及光微影机及检测机典型地在真空环境中操作。这需要真空腔室足够大以容纳微影机或机器组。真空腔室必须足够坚固且气密以支撑所需真空,同时具有开口以供电学、光学及电力电缆进入腔室,在腔室中装载晶圆或靶材及使得可触及机器以供维修及操作需要。在涉及带电粒子机的情况下,真空腔室必须还提供屏蔽以防止外部电磁场干扰机器的操作。先前的真空腔室设计具有各种缺点,诸如相对于微影机的处理量过重,过量使...
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  • 高老师:1.电力电子及应用 2.嵌入式系统应用