技术编号：2979836
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及纳米粒子的产生。 背景技术一种用于沉积材料的已有方法是溅射沉积。根据该方法，把要被沉积的材料所构成的靶放置在处于包含诸如氩气之类低压惰性气体的腔室中的磁控管的上方。随后在靶的上方直接生成等离子体，并且与来自等离子体的气体离子的高能量碰撞使得靶(有效地) 经历被迫蒸发而进入低压腔室。蒸发的材料不是热力学平衡的，并会冷凝到附近表面上，生成薄膜敷层。作为替代，可以使蒸发的原子经过适当的条件来生成纳米粒子。然而，溅射沉积还未被广泛商业认可，并且(除了在专...
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