技术编号:2992686
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明的实施例是关于基材制程设备及方法,例如平面显示器(即LCD(液晶显示器)、OLED(有机发光二极管)、以及其它类型的平面显示器)制程、半导体晶片制程、以及太阳能电池板(solar panel)制程的设备及方法。更明确地说,本发明的实施例是关于用于大面积基材制程系统的溅镀靶材。背景技术 物理气相淀积(PVD)是制造电子组件,例如平面显示器时,最常使用的制程之一。PVD是在一真空反应室内进行的等离子制程,其中一负偏压的靶材暴露在具有相当重的原子(例如氩)...
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