技术编号:2994848
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种六相电源装置,特别地涉及一种用于晶片静电吸附的六相电源装置。背景技术离子注入机主要用于半导体工艺,随着线条越来越细,半导体工艺对注入机提出了更高的要求,其中对金属污染要求的控制更为严格。在以往的离子注入机中大多采用金属机械装置夹持晶片,这种方式容易造成金属在高能离子束轰击下溅射出金属粒子直接污染晶片,使注入晶片不合格,为此比较理想的晶片夹持方式为采用一种无机械装置夹持晶片的静电吸盘。发明内容本实用新型即是针对上述现有技术中存在的问题而提出...
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