技术编号:29988247
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。.本实用新型涉及等离子技术领域,特别是涉及等离子设备。背景技术.等离子处理设备广泛应用于等离子清洗、刻蚀、等离子镀、等离子涂覆、等离子灰化和表面活化、改性等场合。但是,传统的等离子处理设备中,气体进入到两个电极之间形成的等离子空间,由于气流在两个电极之间分布不均匀,进而导致两个电极之间的等离子分布不均匀,进而导致气体在电极之间只能部分电离,产生等离子体的效率较低,导致进行等离子体处理的效率降低。实用新型内容.本实用新型针对上述问题,提出了一种能够提高气体分布的均匀程度进而提高等离子处理效率...
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