技术编号：3008136
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。用于产生高效下游微波等离子系统的方法和装置 背景技术等离子处理的发展为半导体产业的成长做好了准备。随着半导 体产业的成长，使用微波作为功率源，用于基片处理中剥除和非关 一睫蚀刻。剥除应用包括，-f旦不限于，去除大块光刻胶，后金属蚀刻 剥除，用于腐蚀控制的钝化，后硅蚀刻剥除，后离子植入剥除，后 聚乙烯剥除和后电介质剥除。一种表现出持续有希望的发展是在等离子处理机器中使用新 的和不同的几^f可图形。在一种尝试中，4吏用不同的几4可图形，如长直等离子管和盘绕的等...
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