技术编号:3009392
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。一种IT0薄膜激光蚀刻设备及蚀刻方法本发明涉及激光切割,尤其涉及一种ITO薄膜激光蚀刻 设备及蚀刻方法。背景技术ITO薄膜即铟锡氧化物半导体透明导电膜,此膜镀在有机薄膜 PET,玻璃(钠4丐Na-Ca玻璃)或是硬性塑料(表面做过硬化处理的亚 克力板)基板上, 一般厚度只有几千埃(300-500nm),这种氧化铟锡 薄膜具有较低电阻率、高可见光透过率和紫外光高反射率等优良特 性。镀有ITO薄膜的基材刻线后由上层与下层线路组合,各自布线X 轴与Y轴,两层线路中...
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