技术编号:30134689
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。.本申请涉及用于超声清洁工件的转盘(carousel)及其使用方法。背景技术.集成电路通过顺序沉积导电层、半导电层或绝缘层在基板上形成。在沉积一层之后,所述层被蚀刻以产生电路特征。随着一系列层被顺序地沉积和蚀刻,基板的外部或最上表面(即,基板的暴露表面)变得日益非平面。此非平面外表面被周期性地平坦化,以便为额外处理提供相对平坦的表面。化学机械抛光(cmp)是一种平坦化技术。该平坦化技术需要基板安装在承载头或抛光头上。基板的暴露表面靠着抛光垫放置。承载头提供可控的负载(即,压力)在基板上以将基...
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