技术编号:30203637
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。.本实用新型涉及微波防漏装置领域,具体涉及一种连接机构及包含该连接机构的微波等离子体化学气相沉积设备。背景技术.微波等离子体化学气相沉积(mpcvd)技术,以其产品质量高、可控性强、无污染等诸多优势越来越受到行业的重视。微波经由mpcvd设备的同轴段传入腔体内,在生长台上方激发产等等离子体用于金刚石合成。腔体分上腔体和下腔体,上腔体和下腔体之间用介电常数较低的介质(通常为石英玻璃)进行隔离。上腔体内为常压,下腔体为低压,即真空区域。两个腔体之间采用法兰进行连接。该法兰的连接需要同时做到真空密...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。