技术编号：30404708
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本实用新型涉及半导体制备技术及制备设备，具体的，其展示一种自适应平参参考面的抛光吸盘。背景技术.在硅片的制备过程，包括硅片的边缘抛光工序，在加工平参产品时，由于平参面长度较长，寻参仪定位后需要机械手进行传递，硅片传递到加工吸盘时，参考面很难整面和抛光垫贴合均匀，会导致硅片的两边的边抛效果不一致，且重掺产品无法通过目检辨别损伤层异常，导致产品外延后出现白边，影响产品质量。.因此，有必要提供一种自适应平参参考面的抛光吸盘来解决上述问题。实用新型内容.本实用新型的目的是提供一种自适应平参参考...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。