技术编号：30596713
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本发明实施例涉及光刻技术领域，尤其涉及一种物镜保护装置及其工作方法、光刻机。背景技术.光刻机中物镜用于将掩膜版上的图案按照一定比例缩小后映射至涂覆有光刻胶的硅片上，同时在上述过程中进行光学误差补偿，是光刻机的重要组成部件，对光刻精度的影响较大。.现有技术中在物镜与硅片之间设置底部流动板，底部流动板能够在物镜镜头的取光区与硅片之间形成气帘，阻止光刻胶曝光产生的气体和颗粒污染物镜。但气帘通过抽排方式形成，抽排区域附近形成负压环境，导致气帘密封不严，光刻胶曝光一段时间后，仍然会有有害气体和颗粒...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。