技术编号:31053583
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。.本发明涉及一种将基板浸渍于贮存于处理槽的药液、纯水等处理液中,且在处理液内对上述基板供给气泡并进行处理的基板处理装置。.以下所示的日本申请的说明书、附图及权利要求书的公开内容是通过参照而将其全部内容并入本说明书中:.日本特愿-(年月日申请).日本特愿-(年月日申请)。背景技术.在半导体装置的制造领域中,为了应对半导体装置的高密度化与大容量化,期望形成高纵横比的凹部的技术。例如,三维nand型非挥发性半导体装置(以下...
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