技术编号：31302732
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。使用x射线荧光的成像系统【背景技术】.x射线荧光(xrf)是来自被激发(例如，暴露于高能x射线或伽马射线)的材料的特征x射线的发射。如果原子暴露于x射线或伽马射线并且其光子能量大于电子的电离势，则所述原子内轨道上的电子可以被抛出，并在内轨道上留下空穴。当原子外轨道上的电子弛豫以填充所述内轨道上的所述空穴时，x射线(荧光x射线或二次x射线)被发射。所述被发射的x射线的光子能量等于所述外轨道和所述内轨道电子之间的能量差。.对于给定的原子，可能的弛豫数目是有限的。如图a所示，当l轨道上的电子弛豫...
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