技术编号:31569358
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。.本发明涉及半导体装置。背景技术.在日本特开-号公报中公开了具有多个保护环的半导体装置。该半导体装置中,在半导体基板的外周区域设有多个保护环。并且,半导体基板的外周区域被保护膜覆盖。通常,对于保护膜使用氧化物膜。多个保护环与保护膜相接。多个保护环以从内周侧(距元件区域较近侧)朝向外周侧(距半导体基板的外周端面较近侧)相互之间设有间隔的状态被配置。在半导体装置截止的状态下,耗尽层向外周区域内的漂移区域扩展。在耗尽层向外周区域内的漂移区域扩展了的状态下,外周区域内的电场集中通...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。